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處理規(guī)模：45000t/d

采用技術(shù)：混凝除氟+高級(jí)氧化深度處理+樹(shù)脂吸附

該廢水COD在500mg/L左右，芯片生產(chǎn)過(guò)程中由于氟的使用產(chǎn)生大量含氟廢水，工程執(zhí)行《地表水環(huán)境質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》Ⅲ類標(biāo)準(zhǔn)與《電子工業(yè)水污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB39731-2020)直接排放標(biāo)準(zhǔn)的較嚴(yán)值，高排放要求對(duì)于COD、總氮和氟的去除都帶來(lái)極大挑戰(zhàn)。
項(xiàng)目處理量大，環(huán)境與景觀要求高，項(xiàng)目地下為污水處理廠區(qū)，地上為市民公園，打造深圳市綠色生態(tài)標(biāo)桿園區(qū)。

該項(xiàng)目有機(jī)物濃度低，利用均相催化技術(shù)分解氟化物與有機(jī)污染物,并通過(guò)深度處理進(jìn)一步降低氟離子濃度并深度去除COD。